电解铜光泽度的差异

    在电解铜将光泽[一般事务（20 °）]和[气孔导度（60 °）]使用，并与传统的低姿态铜箔的差异，更清晰可以观看。电解铜其中一侧的沉积，光泽[一般事务（20 °）]>的光泽[一般事务（60 °）]有关系。通常情况下，如果相同的物质被认为是足够的，以评估光彩选择一个入射角度。但是，不同的反射率可以根据不同的入射角，即使是同一物质。例如，如果你已经测量的表面粗糙度，如果你要改变入射角，这取决于对这些违规行为，以反射光的空间分布的变动，在光泽度差造成的。对这些想法的基础上，我们测量了表面的光泽效果电解铜，本发明等，发现有一个经验法则如下趋势。也就是说，当电解铜具有较高的光泽度和低表面粗糙度，光泽[一般事务（20 °）]>的光泽[一般事务（60 °）]>的光泽[一般事务（85 °）]的关系批准。在对低表面粗糙度和低电解铜案件光泽，光泽[一般事务（60 °）]>的光泽[一般事务（20 °）]>的光泽[一般事务（85 °）]的关系批准。此外，如电解铜雾和低表面粗糙度，光泽[一般事务（85 °）]>光泽[一般事务（60 °）]>光泽[一般事务（20 °）]的关系批准。因此，除了有一定的光泽度入射角，都与一个不同的角度对这一事件的光泽度值的关系来确定，可能是作为电解铜的平整度指标非常有用。
    然后，通过优化生产条件，正常或加热后38kgf/mm2（180℃× 60分钟，空气气氛）拉伸强度超过33kgf/mm2拉伸强度，并能提供优越的机械性能。因此，这一良好的机械性能，能承受使用收集的材料构成的负极和锂离子二次电池的行为进行扩张和收缩的弯曲的柔性印刷电路板，也适合使用有。
    电解铜根据已被描述上面，不限制厚度。由于制作方法是使用如下所述有关生产电解铜的厚度，减少沉积，从而容易上升甚至说光泽的表面粗糙度。如果我们敢于限制铜箔最大厚度是展示这种倾向认为的极限约在450μm损害电解铜以工业规模生产的经济效益。因此，作为一个概念铜箔厚度普遍，3μm的充分理解〜450μm的范围内。在不超过3μm的情况下，最好是与运营商提供的铝箔电解铜市场。