有研新材拟投资高纯溅射靶材二期扩建项目
2026-07-31 14:20:34 【打印】
有研新材7月30日公告，公司计划推出“集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目”，该项目预计投资额4.86亿元，计划2026年9月启动建设；2027年9月正式投产，释放产能；2028年12月投资完成。
此次扩产项目的实施将提升公司高纯铜及铜合金、高纯钽、高纯钛靶材产能3万块/年，提升我国高端溅射靶材的国产化率，攻克7nm以下先进制程靶材制备技术瓶颈，填补国内高端产品空白。
此次扩产项目的实施将提升公司高纯铜及铜合金、高纯钽、高纯钛靶材产能3万块/年，提升我国高端溅射靶材的国产化率，攻克7nm以下先进制程靶材制备技术瓶颈，填补国内高端产品空白。
钽矿 Ta2O5 30%min 中国到岸
单位:美元/磅 五氧化二钽
中国氧化钽生产商开工率分省份月度统计
单位: %
- 版权与免责声明
- 本网站凡注明“亚洲金属”的所有作品，版权均属于亚洲金属网所有，未经亚洲金属网书面授权，任何媒体、网站或个人不得转载、链接、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网站协议授权的媒体或网站，应在授权范围内使用上述作品，并注明“来源：亚洲金属网”。违者本网站将追究其相关法律责任。
- 本网站凡注明“来源：XXX（非亚洲金属网）”的作品，均转载自其它媒体，亚洲金属网登载此作品出于传递更多信息之目的，不代表亚洲金属网观点或证实其描述，不对其真实性负责。作品内容仅供参考。
- 本网站上会员注册及所发布信息的真实性、完整性和合法性由发布人自行负责。会员留言及评论仅代表使用本网站的该会员个人观点。本网站对此不承担任何保证责任。
- 本网站本着客观和良善的原则，在力所能及的范围内，最大限度确保本网站所提供信息的准确性、完整性和及时性，但并不对任何信息的表述瑕疵或不确承担任何责任。有关各方应谨慎参考操作，本网站概不就任何一方因参阅本网站信息而进行市场操作所带来的任何形式的损失承担任何责任。
